AP-1000等离子系统
特点和优势
·采用PLC控制，触摸屏式人机界面，实时工艺监控
·灵活的电极组合适用于不同类型的产品载具实现Direct或DownStream模 式等离子工艺
·具有自动阻抗匹配的13.56MHz射频电源保证工艺的重复性
·专有软件控制系统可记录工艺和生产数据，便于统计和工艺控制
最苛刻生产环境下均匀的等离子体处理技术
诺信MARCH的AP-1000系统专为满足高性能制造环境下24小时操作严格要求而设计，可实现均匀等离子体处理，安全稳定且操
作简便。
AplOOO型采用紧凑式设计，占地面积小，真空泵、腔体和电气控制件以及13.56MHz射频电源都整合在设备内部，设备前部可方
便完成操作维护，带有脚轮的真空泵装置方便检修。
等离子腔采用美规11标号的不锈钢和铝支架制造，坚久耐用。腔内可调整的电极组根据不同的产品载具，包括料盒、托盘、晶圆、
晶舟等可灵活组合配置。
提高了生产率，满足大容量生产力要求
搭配HTP（高产能）电极的AP-1000等离子系统是综合了March特有的电极设计和AP-1000的高可靠性及其优良的工艺性。
AP-1000 HTP充分利用了射频等离子产生的活性离子，不仅缩短工艺时间而且提高处理均匀性。
开槽式料盒可竖放千工艺腔内，通常每个料盒最少可放置20条引线框，根据料盒尺寸大小，—炉可最多放置12个料盒。
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项目
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内容 | |
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外壳尺寸
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W （宽）xD（长）xH高）－占地面积
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0.68米宽X 1.127米长X 1.89米高
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净重
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485公斤(1069磅）
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设备间隙
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右边 、左边－至少153 毫米，前面－ 至少680毫米，后面－至少483毫米
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处理腔体
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最大容量
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127升
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多种电极 配置
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电源接地，接地－电源，电源－电源
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电极插槽数
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14
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电极间距
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25.4 毫米(600W) 50.8 毫米 (lOOOW)
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| 电极 |
电源 电极面积
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349毫米宽x425毫米长 |
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多孔接地 电极面积
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384毫米宽x425毫米长
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悬浮电极面积
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349毫米宽x425毫米长 | |
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射频功率
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标配电源
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600W
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选配电源
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1000W
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频率
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13.56 MHZ
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气体控制
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流量计
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10、25、50、100、250、500、1000、2000或5000标准毫升／分钟
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MFC最多可配置数
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4
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控制和接口
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软件 控制
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PLC控制，配有触摸屏界面
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远程接口
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PlasmaLINK、ProcessLINK、SECS/GEM接口
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真空泵
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标配油泵
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1500升／分钟，配有氧油除雾器
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选配油泵
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1500升／分钟，配有防锈油除雾器
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选配干泵
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1784升／分钟
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干泵净化氮气用量
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14升／分钟
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干泵冷却水用量
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5升／分钟
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| 设施 |
电源
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220伏，25安，50/60赫兹，3相， 8AWG,4线
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380伏，25安，50/60赫兹，3相， 8AWG,5线
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工艺气体管径及接口
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外径6.35 毫米(0.25英寸）Swagelok管
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工艺气体纯度
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实验室或电子等级
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工艺气体压力
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最小0.069兆帕至最大0.103兆帕，可调节
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净化气体管径及接口
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外径6.35 毫米(0.25英寸） Swagelok管
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净化气体纯度
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实验室或电子等级N2/CDA
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净化气体压力
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最小0.2兆帕至最大0.69兆帕，可调节
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气动阀接口及管径
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外径6.35 毫米(0.25英寸）Swagelok管
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压缩空气纯度
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CDA 、无油、霞点温度�7 C，粒径<5微米
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压缩空气压力
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最小0.345兆帕至最大0.689兆帕，可调节
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排放
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外径38 毫米(LS英寸）管道法兰
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| 合规性 |
半导体
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通过SEMI S2/S8 （环境、健康和安全／人体工学）认证
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国际
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通过CE认证
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辅助设备
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气体发生器
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氮气、氢气（需要其他不可选硬件）
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设施
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冷却器、洗涤器
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